焦化废水处理的有效方法包括活性炭吸附、混凝沉降和生化处理等。虽然这些方法可以降低化学需氧量，但仍然无法达到排放标准，近年来，光催化氧化法因其成本低、反应条件温和、无污染等特点，成为降解水体中有机污染物的研究热点，TiO2因其稳定性好、催化效率高、无毒、价格低廉及电子传输效率高等特点，成为当前研究最多、应用最广的光催化剂之一。
1、光氧催化设备原理是啥光氧催化设备原理是以Fe2 或Fe3 及H2O2为介质，通过光助芬顿反应产生羟基自由基使污染物得到降解。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有效的催化剂。紫外/臭氧(UV/03)组合是通过加速臭氧分解速率，提高羟基自由基的生成速度，并促使有机物形成大量活化分子，来提高难降解有机污染物的处理效率。非均相光催化降解是利用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可诱发产生羟基自由基。
把这项技术应用于POPs的处理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半导体材料都可以用作这项技术的催化剂，比如CdS是一种高活性的半导体光催化剂，但是它容易发生光阳极腐蚀，在实际处理技术中不太实用。扩展资料利用光催化氧化技术可以高效降解或完全矿化常见的气相有机污染物，而不产生二次污染。
2、AOT紫外光催化氧化消毒设备AOT（AdvancedOxidationTechnologies）高级氧化光催化杀菌消毒技术，是利用高级氧化技术中光催化氧化机理，在反应过程中产生强氧化性的羟基自由基•OH，将水中绝大部分的有机物及无机污染物，氧化分解生成小分子CO2、H2O等无害物质。早在1917年，以太阳能化学换转和储存为主要背景的半导体光催化特性的研究就已开始。
1976年，Carey等将半导体用于有机物降解。此后，光催化氧化作为一种新的水处理工艺开始快速的发展，1977年，FrankS.N.与合作者Bard等选定了TiO2等单一半导体化合物做光催化剂，发现这些半导体微粒在紫外波段具有一定的光催化特性。而TiO2因其稳定性好、成本低、光催化活性强、对人体无害等特性而最具有应用前景。