光刻胶上海新阳子公司上海芯刻微进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目飞凯材料公司的光刻胶产品主要目标应用于TFT-LCD行业同益股份公司引入韩国光阻材料供应商SMS、KISCO、DKC广信材料公司光刻胶项目正在研发中，已有部分研发成果赛微电子公司与ASML合作，在瑞典和北京分别拥有数台光刻机蓝英装备公司与荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)公司保持长时间的合作容大感光公司掌握PCB油墨、光刻胶等电子化学产品生产过程中的核心技术。
先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造，在满足其自身生产研发需要的前提下，不排除向具备条件的其他客户提供产能支持，但公司目前尚未启动该类型的合作。晶瑞电材子公司苏州瑞红于1993年开始光刻胶的生产，是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一强力新材公司专业从事电子材料领域各类光刻胶专用电子化学品的研发、生产和销售及相关贸易业务。
1、南大光电4项业务:MO源、光刻胶、电子特气、ALD前驱体产品为了写完光刻胶的研究任务，挑了南大光电，本文写完的时候也是一个月前，一直放到草稿箱里到今天才发，所以一些信息可能没更新（比如南大光电的光刻胶通过的客户认证）。公司的主营业务主要有MO源、光刻胶、电子特气、ALD前驱体产品。我想此刻我们的心情是一样的。为了了解这2个英文字母 1个汉字，估计我得对各个概念如剥笋般层层研究。
公司2010年在国内MO源的市场份额60%，全球15%。它的下游客户，带“光电”二字的公司很多，可以进一步了解到，这个东西应该主要应用于光电子行业，如LED和太阳能电池。好了，虽然不知道这个东西，但至少可以了解到它是做半导体的某种核心基本材料，看样子是不可或缺的。而且公司是这一块的绝对龙头（都60%市占率了还能说啥？
2、光刻胶不可见白光,其中ktm7000回温要多久?ktm7000是一种深紫外光刻胶，其特点是曝光后相对不易溶解的特点，一般用于制备微纳器件。在回温过程中，ktm7000需要在特定的温度下进行回温处理来消除曝光后产生的应力，芯片的回温选用的温度为130150℃。具体回温多久则需要根据样品的形状、尺寸等因素来计算。一般来说，可以按照以下公式进行计算：t（t1 t2）×h2/h1其中t为回温时间，t1为初始温度时的时间，t2为回温温度时的时间，h1为初始温度，h2为回温温度。
3、光阻的厚度如何调高精细和超薄化是当今显示屏技术的发展趋势，而超薄化要求对光阻的膜厚进行严格地管控。显示屏中的彩色滤光片(CF)一般通过依次将黑色矩阵(BM)、红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)、保护膜(OC)、间隙粒子(PS)的光阻材料涂布于基板上，经过曝光、显影和后烘后形成图形，R、G、B的光阻的膜厚一般通过薄膜测量仪(SP,SurfaceProfile)测量得出，并反馈给涂布机(Coater)进行管控。