中国攻克28纳米国产离子注入机真是打破了国外垄断。就在大家关注光刻机领域的同时，中国已经攻破了七大芯片设备之一的离子注入机技术，这回卡脖子的芯片设备又少了，首先，大家都知道光刻机是什么，但很少有人知道离子注入机时什么，其实，与光刻机一样，离子注入机也是芯片制造中的关键装备，离子注入机是高压小型加速器中的一种，它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。
这有点像做蛋糕，往里面添加芝麻、慕斯等食材，可以让蛋糕更具风味。离子注入机就是起这个作用。比如，中束流、大束流是指向硅片注入离子的效率，束流越大，每分钟注入的离子数越多。因此，大束流离子注入机具有很高的科技含量。其次，以前中国企业都习惯用国外的离子注入机。全球离子注入机主要被美国应用材料、美国亚舍立科技垄断，美国企业在离子注入机的行业集中度十分高。
1、离子除臭设备性能有哪几方面离子除臭装置是废气处理设备中的一种，该设备在进行工业的废气处理时效率时非常高的，能够根据根据废气的成分不同进行设计，如有部分的废气是可燃的、不易分解的，因此在处理这部分废气时需要对于离子送风部分进行处理。离子除臭设备的工作原理：除臭设备在高压电场的作用下，可以产生大量的具有强的氧化性的正、负氧离子，产生的这些正、负氧离子能够将有机废气中的含有的硫化氢、醚类、胺类、甲硫醇、氨等污染物分解，最后将这些有机物降解成水和二氧化碳等无害物质。
离子除臭设备具有以下优势：1、设备的废气处理效果好：该设备能够高效地去除VOC有机污染物、氨气、无机物等，其除臭效率高达99%以上。2、设备使用的范围广：设备能够去除多种成分的低浓度废气，如氨气、硫醇类、无机物等污染物。3、设备运行稳定：设备可一天24小时运行，排放出来的空气符合用户需求，设备运行稳定。
2、离子注入机原理离子注入是一种掺杂方式，主要是通过高速电场加速给予掺杂离子很高的能量让其轰击半导体层，通过与半导体原子核或电子的碰撞停在半导体内部（一般是让其代替半导体（si）原子在晶格中的位置），提供电子或空穴。离子注入机主要由产生注入离子的离子源，吸取、加速电极，磁分析器和聚焦系统和载台等构成，按规格也各有不同，有的没有磁分析器，有的是先通过分析器筛选出注入离子后在进行加速，也有的是先加速后筛选，更有在磁分析器单元里面设置聚焦磁场的离子注入机等等，大致原理都差不多。
3、离子引擎的设备特点离子引擎最大的优点当然是高效。由于离子流的喷射速度比化学推进剂快很多，离子引擎每消耗单位质量的燃料，可以产生10倍与传统推进设备的推力。所以DeepSpace1只携带了81.5千克的氙推进剂，就可以进行20个月的飞行，这对于化学推进剂来说简直是不可想象的。离子引擎还可以以持久稳定的推力连续工作数月乃至数年，如此就可以将探测器加速到很快，大大地减少到达目的地所花费的时间。
不过离子引擎并不象化学推进引擎那样能在短时间内产生强大的推力，所以它并不适合作为运载火箭的发动机或其他需要很大加速度的场合，实际上不论是DeepSpace1、SMART1还是Hayabusa，都是先由运载火箭发射升空后离子引擎才开始工作的。但稳定的小推力也有自己的优点：它能方便测控人员实时精细调整在轨卫星或探测器的状态，所以对于深空探测来说，离子引擎是很好的选择。